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設備用途：

?應用于wafer UV 解膠制程

設備特點：

? 通過SECS/GEM 或E84對接天車系統，同時可上下兩個料盒。

? 晶圓機器人掃料盒識別maping并通過SECS/GEM與EAP比對料盒信息，

    比對成功后，晶圓機器人取8寸或12寸Ring放置兩個UV解膠平臺。

? UV燈移動均勻解膠

? UV功率可控且可監控

? 解膠參數由EAP管控

? 解膠完成再通過晶圓機器人將Ring放回料盒。

? 具備SECS/GEM通訊協議，為自動化生產提供渠道

設備規格：

? 尺寸: H1950 x W1400 x L2100mm(含 FFU)

? 重量:：900kg